卷对卷PECVD石墨烯制备设备柔性透明电极连续生产 参考价：面议
卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机和智能手机屏幕，超轻、柔性的太阳能电池，以及新型的发光设备和其他薄膜电子产品
PECVD镀膜仪 参考价：面议
CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅...
单温区旋转PECVD石墨烯制备系统 参考价：面议
单温区旋转PECVD，安装有真空自动投料器，炉管尾部预留KF40接口可以连接收料罐。投料器采用螺杆进料，可以以额定的速率将粉料送入炉管，投料速率可通过调节转速来...
卷对卷式PECVD 参考价：面议
卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中，如碳纤维制备、合金及其他材料线材改性处...
等离子增强CVD系统 参考价：面议
等离子增强CVD系统由等离子发生器，三温区管式炉、单温区管式炉、射频电源、真空系统组成。等离子增强CVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的...
等离子增强型CVD系统 参考价：面议
CY-PECVD50R-1200-Q是一款等离子增强型CVD系统。此系统由150W射频电源、单温区管式炉、3通道质子流量计控制系统、性能优异的真空泵组成。
PEALD等离子增强原子层沉积系统 参考价：面议
等离子增强原子层沉积（PEALD）系统是一种的薄膜沉积技术，结合了等离子体和原子层沉积（ALD）的优点，以实现更高的薄膜质量、更低的沉积温度和更广泛的材料兼容性...
三温区PECVD石墨烯制备 参考价：面议
三温区PECVD广泛用于石墨烯制备，颗粒包覆等科学实验上
PECVD气相沉积 参考价：面议
PECVD气相沉积在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用
热阴极直流等离子体化学气相沉积设备（DCCVD） 参考价：面议
热阴极直流等离子体化学气相沉积设备（DCCVD）是在常规冷阴极辉光放电基础上发展起来的，主要用于金刚石单晶或多晶膜的沉积生长
PECVD-R旋转等离子加强CVD设备 参考价：面议
本产品为PECVD-R旋转等离子加强CVD设备。PECVD-R旋转等离子加强CVD设备十分适合在气氛保护的环境下连续对粉末材料用CVD方法进行包裹和修饰。
PECVD化学气相沉积系统 参考价：面议
PECVD化学气相沉积系统采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度
等离子体增强型化学气相沉积PECVD 参考价：面议
化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬...
PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积 参考价：面议
PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉，一套钨丝蒸发源，一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉...
双温区CVD化学气相沉积系统 参考价：面议
CVD（化学气相沉积）气相沉积系统是一种常用的薄膜制备技术，通过在高温下将气体反应物质与基底表面反应，形成薄膜
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